硅晶圓的重要性以及生產(chǎn)時(shí)為何需要超純水設(shè)備?
前言:硅晶圓是現(xiàn)代微電子工業(yè)的基礎(chǔ)材料,對(duì)于現(xiàn)代科技的發(fā)展具有至關(guān)重要的意義。微電子技術(shù)的發(fā)展已成為信息技術(shù)、航空航天、軍事、通信、能源等眾多領(lǐng)域的基礎(chǔ),而這一切都離不開(kāi)硅晶圓的生產(chǎn)。而在硅晶圓制造工藝中還離不開(kāi)一種設(shè)備的身影,那就是超純水設(shè)備。
硅晶圓的制造過(guò)程中為何需要超純水設(shè)備?
因?yàn)?,硅晶圓的制造過(guò)程中,需要使用大量的水進(jìn)行清洗和蝕刻。如果水質(zhì)中含有雜質(zhì),就會(huì)對(duì)硅晶圓表面造成劃痕或腐蝕,影響產(chǎn)品的質(zhì)量。超純水設(shè)備可以去除水中的微粒、有機(jī)物、無(wú)機(jī)物和其他雜質(zhì),確保水質(zhì)達(dá)到極高純度,從而保證硅晶圓的質(zhì)量。
硅晶圓生產(chǎn)中應(yīng)用的超純水設(shè)備主要采用的是預(yù)處理+反滲透+EDI+混床的組合形式來(lái)制備超純水。設(shè)備具有高效低能、運(yùn)行成本低,水資源利用率高、體積較小、維修量小,運(yùn)行時(shí)間長(zhǎng)等優(yōu)點(diǎn)。并且設(shè)備采用的EDI模塊可以避免添加任何化學(xué)品,不僅減少了化學(xué)品運(yùn)輸問(wèn)題,同時(shí)降低了系統(tǒng)運(yùn)行費(fèi)用。EDI模塊的應(yīng)用不會(huì)產(chǎn)生酸堿廢液,因此不需要酸堿中和處理,這也就減少了一定的投資成本。
超純水設(shè)備不僅擁有上述的優(yōu)勢(shì),還能夠連續(xù)穩(wěn)定地制備品質(zhì)優(yōu)良的超純水,水質(zhì)符合國(guó)家GMP認(rèn)證規(guī)定標(biāo)準(zhǔn),而且還能夠滿(mǎn)足各種工業(yè)用水的不同需求,應(yīng)用范圍非常廣泛,可適用于電子、半導(dǎo)體、線路板、集成電路、精密機(jī)械的生產(chǎn)和清洗,還可以應(yīng)用在食品、飲品和飲用水的制取行業(yè)中。
結(jié)論:硅晶圓作為現(xiàn)代微電子工業(yè)的基礎(chǔ)材料,超純水設(shè)備能夠提供高純度的水,可以有效避免因水質(zhì)問(wèn)題引發(fā)的硅晶圓被劃產(chǎn)生劃痕等問(wèn)題,保證了硅片的質(zhì)量和性能。因此,超純水設(shè)備是生產(chǎn)高質(zhì)量硅晶圓的必要條件。
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