硅晶圓清洗水可采用超純水設(shè)備生產(chǎn)

時(shí)間：2024-06-13

　　硅晶圓是半導(dǎo)體制造過(guò)程中必不可少的材料之一。它是一種無(wú)機(jī)非金屬材料，主要由硅元素構(gòu)成，具有良好的穩(wěn)定性。在半導(dǎo)體制造中，硅晶圓通常用作集成電路、太陽(yáng)能電池和其他電子設(shè)備的基板。硅晶圓的生產(chǎn)需要高精度的加工和嚴(yán)格的質(zhì)量控制，以確保晶圓的純度和一致性。

　　當(dāng)硅晶圓被污染時(shí)，需要對(duì)硅晶圓進(jìn)行清洗，以此保證它作為電子器械生產(chǎn)原料的純凈度。硅晶圓清洗并不是自來(lái)水沖洗就可以的，因?yàn)樗蔷懿牧?，必須要使用超純水清洗才可以保護(hù)它不受雜質(zhì)污染。超純水設(shè)備是生產(chǎn)超純水的專用技術(shù)產(chǎn)品，可以穩(wěn)定連續(xù)地生產(chǎn)大批量品質(zhì)安全可靠的超純水。

超純水設(shè)備

　　超純水設(shè)備采用了“雙級(jí)反滲透系統(tǒng)+EDI模塊”的技術(shù)工藝。反滲透膜可以有效去除水中含有的鈣、鎂、鉀等金屬離子和其他微量元素，還可以將細(xì)菌、微生物有效脫除。EDI系統(tǒng)有效保證了超純水品質(zhì)，脫鹽處理過(guò)程中不會(huì)產(chǎn)生酸堿廢液，不會(huì)給后續(xù)工藝帶來(lái)處理負(fù)擔(dān)，省去了酸堿中和處理的步驟，簡(jiǎn)化了生產(chǎn)工藝。

　　超純水設(shè)備內(nèi)部還設(shè)置了獨(dú)有的靶向離子交換系統(tǒng)，可以將難處理的硼及其他離子定向去除。由于反滲透膜技術(shù)的存在，在超純水生產(chǎn)時(shí)可以實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的帶電荷運(yùn)行，離子遷移速度會(huì)更快，脫鹽效果會(huì)更好。除此之外，超純水設(shè)備還實(shí)現(xiàn)了高度自動(dòng)化運(yùn)行，操作非常靈活，節(jié)約了人員力量的投資成本。

　　超純水的水質(zhì)純度高，主要用作工業(yè)生產(chǎn)原料水和精密器械清洗水。采用超純水清洗硅晶圓能有效保證硅晶圓的無(wú)菌性和純凈度。超純水設(shè)備可以穩(wěn)定連續(xù)生產(chǎn)超純水，不需要更換樹脂，具有很高的應(yīng)用價(jià)值。

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　　編輯：新奇技術(shù)：加菲

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